O2-zuiverheid: ≥99,5%

O2-capaciteit: 50~10000Nm3/u

N2-zuiverheid: ≥99,999%

N2-capaciteit: 50~30000 Nm3/u

Produceer O2 en N2 gelijktijdig en afwisselend

O2-zuiverheid: ≥99,5%

N2-zuiverheid: ≥99,999%

O2-capaciteit: 50~10000Nm3/u

N2-capaciteit: 50~30000Nm3/u

Argonzuiverheid: ≥99,9%

Argoncapaciteit: ≥3Nm3/h

Zuiverheid vloeibare zuurstof: ≥99,5%

Vloeibare zuurstofcapaciteit: ≤300TPD

Zuiverheid vloeibare stikstof: ≥99,999%

Capaciteit vloeibare stikstof: ≤300TPD

Produceer LOX en LIN tegelijkertijd en afwisselend

Zuiverheid vloeibare zuurstof: ≥99,5%

Zuiverheid vloeibare stikstof: ≥99,999%

LOX/LIN-capaciteit: ≤300TPD

Produceer LOX& LIN&LAR gelijktijdig en afwisselend

Zuiverheid vloeibare zuurstof: ≥99,5%

Zuiverheid vloeibare stikstof: ≥99,999%

Zuiverheid vloeibare argon: ≥99,999%

LOX/LIN-capaciteit: ≤300TPD

Capaciteit vloeibaar argon: ≤100TPD